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PECVD生产线
  • 利用射频离子化学气相沉积技术,具有沉积速率快,成膜质量好的特点,可快速镀制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、无定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。
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