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高功率脉冲电源
产品简介
激发能确保镀膜质量优异的高密度等离子体,高功率脉冲磁控管溅射(HIPIMS)电源可助您获得出色的镀膜结果。
>> 咨询热线:13316689188 李国栋(经理)

激发能确保镀膜质量优异的高密度等离子体,高功率脉冲磁控管溅射(HIPIMS)电源可助您获得出色的镀膜结果。

• 获得的膜层在均质性、硬度、耐磨损性和粘性方面性能优异。
• 可以作为直流磁控溅镀电源的替代,使用现有的磁控溅射系统,而无需设备改造。
• 多重离子化和离子定向使其可以用于沟道填充等工艺。

特性:
• 功率最高达8 MW
• 电弧反应灵敏
• 脉冲持续时间和频率设置灵活
• 实时调节和监控脉冲
• 可背部接口

客户效益:
• 灵活性极高,适用于各种科研和工业工艺
• 磁控溅镀无液滴,表面损伤极小
• 方便与现有阴极系统和工艺条件匹配
• 充分利用靶材
• 最佳的设备连接设置

Product 功率 输出 输出 冷却
[kW] 电压 电流
  [V] [A]
TruPlasma 4001 型高功率脉冲电源 1000 1000 1000 风冷
TruPlasma 4002 型高功率脉冲电源 2000 2000 1000 风冷
TruPlasma 4006 型高功率脉冲电源 6000 2000 3000 风冷
TruPlasma 4008 型高功率脉冲电源 8000 2000 4000 风冷

TruPlasma Highpulse 4000 高功率脉冲电源在高功率脉冲磁控管溅射(HIPIMS)工艺中是您的最佳选择。作为脉冲 PVD 溅镀工艺的最新发展成果,HIPIMS 工艺可以制成耐腐蚀性和耐磨损性特别优异的硬质膜层。
该系列电源最高功率可达 8 MW,可以产生超高等离子体密度和高离子流密度。基本上与电弧放电装置相同,但是采用 HIPIMS 技术时不会产生材料熔滴现象(droplets)。通过与偏压系统相结合,TruPlasma TruPlasma Highpulse 4000 高功率脉冲电源系列可应用于半导体生产工艺,如刻蚀、表面预处理和沟道填充。

镀膜机电源

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